芯片流片成功率创历史新低？西门子数据揭示：先进制程下的良率困境与挑战 冲压模具 2025-11-23 16:06:49 12 按照西门子所给出的数据来讲，半导体行业当中首次进行流片时的成功率已然抵达了历史阶段的低点，除此而且，伴随2nm这个情况的来临，在先进制程工艺条件之下的芯片良率同样是不容易得到提高的。 芯片遇到了大难题。 芯片流片成功率，历史低点 流片对于芯片设计来说，就是参加一次大考。 针对芯片设计而言，流片属于检验其是否成... 阅读全文
